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摘要:
本文采用射频磁控溅射法在玻璃衬底表面制备了Al2O3掺杂的ZnO薄膜(AZO膜),使用四探针薄膜方阻仪、XRD和分光光度计对AZO薄膜光电性能进行了表征分析。研究了制备参数和退火条件对AZO薄膜光电性能的影响,获得了制备高透过率(90%)和低方阻(15 Ω/□) AZO薄膜最佳工艺参数。
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文献信息
篇名 AZO透明导电膜的光电性能研究
来源期刊 材料科学 学科 物理学
关键词 ZNO 掺杂 溅射 方阻 透过率
年,卷(期) clkx_2018,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 401-411
页数 11页 分类号 O48
字数 语种
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研究主题发展历程
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ZNO
掺杂
溅射
方阻
透过率
研究起点
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相关学者/机构
期刊影响力
材料科学
月刊
2160-7613
武汉市江夏区汤逊湖北路38号光谷总部空间
出版文献量(篇)
745
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