机械抛光作为后处理对AlCl3-EMIC型离子液体电镀铝的影响

• 作者: 孙志华 张骐 易俊兰 汤智慧 秦锐 詹中伟
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 电镀铝 1?乙基?3?甲基咪唑氯化物 离子液体 机械抛光 粗糙度 光泽度 耐蚀性 结合力
• 年，卷（期）: 2018,（8）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 323-327
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.15|TG580.692
• 字数: 2689字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2018.08.001

摘要

采用机械抛光对以 AlCl3?EMIC 型离子液体电镀制备的铝镀层进行后处理.对比研究了镀态和机械抛光后的铝镀层的外观、微观形貌、厚度、结合力和耐蚀性.结果表明,对铝镀层进行机械抛光可以在不影响镀层结合力和耐蚀性的前提下,显著降低其表面粗糙度,提高光泽度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汤智慧	北京航空材料研究院航空材料先进腐蚀与防护航空科技重点实验室	88	790	15.0	21.0
2	孙志华	北京航空材料研究院航空材料先进腐蚀与防护航空科技重点实验室	63	690	16.0	22.0
3	詹中伟	北京航空材料研究院航空材料先进腐蚀与防护航空科技重点实验室	15	58	5.0	6.0
4	易俊兰		7	18	3.0	4.0
5	秦锐		3	7	2.0	2.0
6	张骐	北京航空材料研究院航空材料先进腐蚀与防护航空科技重点实验室	5	9	2.0	3.0