离子束溅射Ta2O5薄膜光学性质的热处理研究

• 作者: 林斯乐 谢知 龙博
• 来源期刊: 曲阜师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: Ta2O5薄膜 退火 面吸收 离子束溅射
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 物理科学
• 页码范围: 77-80
• 页数: 4页
• 分类号: O48
• 字数: 1930字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5337.2018.2.077

摘要

使用离子束溅射法,在熔融石英衬底上沉积Ta2O5薄膜,并将 Ta2O5薄膜置入100 ℃到500 ℃的环境中退火.通过 XRD、透过率光谱、面吸收测试,研究了热退火温度对 Ta2O5薄膜折射率与面吸收的影响.总结了退火温度与薄膜折射率与面吸收的对应关系,并给出简单的理论解释.该结论对Ta2O5薄膜的制备及光学性能调控提供一定的参考价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢知	福建农林大学机电工程学院	7	10	2.0	3.0
2	林斯乐	福建农林大学机电工程学院	6	3	1.0	1.0
3	龙博	福建农林大学机电工程学院	2	1	1.0	1.0