CF4及其N2混合物在普冷温区下绝缘机理分析

• 作者: 侯孟希 屠幼萍 李卫国 程宇頔 袁创业
• 来源期刊: 中南大学学报（英文版）
• 关键词: CF4 N2 分子团 附着效应 击穿机理 普冷温区
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 页码范围: 1701-1707
• 页数: 7页
• 字数: 289字
• 语种: 英文

摘要

普冷温区环境下气体绝缘机理依然不够明朗.本文在温度-153～25℃,气压50～2000 Pa的范围内对CF4、N2、20％CF4/N2以及50％CF4/N2混合气体进行了绝缘击穿试验.试验结果表明:气体临界击穿电压出现位置随着温度的降低向低气压偏移;N2临界击穿电压随着温度的变化呈现明显的波动性,随着气体中CF4含量的增高,混合气体临界击穿电压随着温度变化的波动性降低,纯CF4气体临界击穿电压随着温度的降低呈单调下降趋势.这一现象与分子电负性强弱、附着效应、分子团以及二代电子崩的形成有关.