掠射角溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜

• 作者: 温佳星 王美涵 陈昀 雷浩
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钨薄膜 纳米结构 掠射角 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2018,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1303-1308
• 页数: 6页
• 分类号: TB34
• 字数: 3421字
• 语种: 中文
• DOI: 10.15541/jim20180130

摘要

采用掠射角反应磁控溅射法在室温下沉积了纳米结构氧化钨(WO3)薄膜,并对薄膜进行热处理.利用场发射扫描电镜(FE-SEM)和X射线衍射仪(XRD)对氧化钨薄膜的形貌和结构进行了表征.当掠射角度为80°时,采用直流电源沉积的氧化钨薄膜具有纳米斜柱状结构,而采用脉冲直流电源沉积的薄膜呈现纳米孔结构.纳米薄膜经450℃热处理3 h后,纳米斜柱彼此连接,失去规整结构,而纳米孔结构的孔尺寸变大.XRD分析表明室温沉积的氧化钨薄膜具有无定形结构,经450℃热处理1 h后,转变为单斜晶相.具有纳米斜柱状或纳米孔结构氧化钨薄膜的光学调制幅度在波长600 nm时达到60％,且电致变色性能可逆.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷浩	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	13	34	4.0	5.0
2	王美涵	沈阳大学机械工程学院	31	76	5.0	7.0
3	温佳星	沈阳大学机械工程学院	5	21	3.0	4.0
4	陈昀	沈阳大学机械工程学院	4	6	1.0	2.0