温度梯度法制备CeF3光学镀膜材料的工艺研究

• 作者: 吴心平 张碧田 彭程
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: CeF3晶体 温度梯度法 光学镀膜材料
• 年，卷（期）: 2018,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1287-1293
• 页数: 7页
• 分类号: TB34
• 语种: 中文
• DOI: 10.13373/j.cnki.cjrm.XY17040045

摘要

以自制的CeF3粉体为原料,在真空碳管炉中采用温度梯度法制备了CeF3晶体.通过X射线衍射(XRD)、扫描式电子显微镜(SEM)、能谱分析(EDS)等分析方法对不同影响因素下的产物进行表征,CeF3晶体进行镀膜实验,并对所得膜层进行光学性能测试.结果表明:采用钨坩埚,在1×10-2 Pa真空度下1500℃保温1h,以100℃·h-1的温度梯度降温,可制备得结晶性能良好的CeF3晶体.添加NH4 HF2作为脱氧剂可以使产物中氧含量从0.54％(质量分数)降低到0.1％.采用两种氧含量的CeF3晶体分别进行镀膜实验,氧含量较低的晶体,其镀膜速率波动曲线较稳定,在±0.05 nm ·s-1之间波动,说明氧含量的降低可显著改善材料的蒸发特性;镀膜残余由发黑、发白、黑白过度三部分组成,其发黑部分氧含量最高为7.92％.CeF3膜层性能测试表明,在波长为550 nm处,折射率为1.6,吸收系数为3×10-4.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张碧田		10	68	4.0	8.0
2	彭程		4	5	1.0	2.0
3	吴心平		1	1	1.0	1.0