磁控溅射制备本征ZnO/Ag/ZnO透明导电薄膜的性质研究

• 作者: 周艳文 李彤 武俊生 王晓明 王艳雪 赵卓 高鹏
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 透明导电薄膜 射频磁控溅射 粉末靶 镀膜
• 年，卷（期）: 2018,（9）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 1272-1279
• 页数: 8页
• 分类号: O484.4|TM24
• 字数: 3612字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20183909.1272

摘要

室温下采用射频磁控溅射氧化锌(ZnO)粉末靶、银(Ag)靶,在玻璃衬底上制备ZnO/Ag/ZnO透明导电薄膜.首先,ZnO厚度为30 nm时,改变Ag厚度制备3层透明导电薄膜,研究Ag层厚度及膜层间配比对光电性能的影响;其次,按ZnO:Ag厚度比为30:11比例制备不同厚度的3层透明导电薄膜,研究多层厚度对薄膜光电性能的影响.结果表明:Ag厚度为8 nm及11 nm的ZnO/Ag/ZnO表面相对平整,结晶程度较好,在可见光范围内最高透过率达到90％及86％,并且方块电阻为6Ω/□及3.20Ω/□,具有优良的光电性;当按配比制备ZnO/Ag/ZnO 3层膜时,增加ZnO厚度对Ag层的增透作用反而减弱,同时增加Ag层厚度也会降低3层薄膜的整体光学性.