铜基等离子体喷涂钨涂层性能

• 作者: 种法力 纪素艳 郑学斌 陈俊凌
• 来源期刊: 宇航材料工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 钨 面对等离子体材料 等离子体喷涂技术
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 新材料新工艺
• 页码范围: 68-71
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.4
• 字数: 2995字
• 语种: 中文
• DOI: 10.12044/j.issn.1007-2330.2018.06.013

摘要

阐述了钨涂层微观结构影响机理以及涂层性能.通过等离子体喷涂工艺参数及微观形貌分析涂层微观结构和参数对涂层性能的影响,工艺参数主要包括喷涂功率、喷涂距离、送粉气量等.结果显示钨涂层是由钨粒子熔融沉积平铺成“圆饼状”或“花瓣状”的单层叠加而成,单层呈现柱状晶微观结构,厚度约10 μm、直径约50 μm的“圆饼状”单层是状态比较好的涂层结构.钨粒子熔化状态、沉积速率以及喷涂环境决定了熔化粒子的沉积形貌;与大气喷涂相比,真空喷涂钨涂层气孔率低、传热性能和结合性能较好,适合作为面对等离子体材料的制备技术.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈俊凌	中国科学院合肥物质科学研究院	43	333	12.0	16.0
2	种法力		28	70	4.0	7.0
3	郑学斌	中国科学院上海硅酸盐研究所	52	489	12.0	20.0
4	纪素艳		4	2	1.0	1.0