ICP-MS法快速测定多晶硅表面八种金属杂质含量

• 作者: 张云晖 徐远志
• 来源期刊: 云南冶金
• 学科: 化学
• 关键词: 表面金属 ICP-MS 惰性进样系统
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 检测技术
• 页码范围: 79-83
• 页数: 5页
• 分类号: O657.63
• 字数: 3959字
• 语种: 中文

摘要

使用硝酸、氢氟酸、过氧化氢和水的混合溶液浸取多晶硅表面金属杂质,无需赶尽氢氟酸,采用配备耐氢氟酸惰性进样系统的ICP-MS直接测定多晶硅产品中钠、铝、钾、铁、铬、镍、铜和锌8种表面金属杂质含量,结果表明该方法具有简便、快速、准确等特点,加标回收率为84.0％～110.6％,相对标准偏差(RSD)为3.79％～11.96％,检出限为0.003 ng/g ～0.018 ng/g.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张云晖		2	1	1.0	1.0
3	徐远志		3	1	1.0	1.0