沉积氧压对二氧化钒薄膜结构、光电性能及其MIT相变特性的影响研究

• 作者: 何云斌 卢寅梅 李派 陆浩 陶欣
• 来源期刊: 材料科学
• 学科: 物理学
• 关键词: VO2薄膜 金属-绝缘体相变 脉冲激光沉积法
• 年，卷（期）: clkx_2018,（5）
• 页码范围: 573-581
• 页数: 9页
• 分类号: O48

摘要

本工作中我们采用脉冲激光沉积法,以金属钒靶作为烧蚀靶材、高纯氧气作为反应气体,通过改变薄膜生长时的氧压,在TiO2 (110)衬底上制备VO2薄膜。利用X射线衍射仪、X射线光电子能谱分析仪、紫外-可见-近红外光谱测试仪、四探针测试仪系统测试并研究了薄膜生长氧压对VO2薄膜的结构、成分、光学性能及金属-绝缘体相变特性的影响。实验结果表明:不同氧压下制备的VO2薄膜(011)晶面X射线衍射摇摆曲线半高宽都很小(在0.12?~0.27?范围),表明薄膜的面外取向度很高;当氧压为6.5 Pa时,制备的VO2薄膜摇摆曲线半高宽最小(0.116?),相变前后薄膜对太阳能调制最大、其电阻开关比达到4个数量级,薄膜相变温度接近63℃,金属-绝缘体转变特性显著。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何云斌	湖北大学材料科学与工程学院	13	20	3.0	4.0
2	李派	湖北大学材料科学与工程学院	4	0	0.0	0.0
3	卢寅梅	湖北大学材料科学与工程学院	5	0	0.0	0.0
4	陶欣	湖北大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
5	陆浩	湖北大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0