N(C2H4OH)3对电合成氧化钴/聚苯胺复合膜腐蚀性能的影响

• 作者: 林雪 牟世辉
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 恒电位法 氧化钴 耐蚀性 聚苯胺 三乙醇胺
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 6-9
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 3047字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2018.06.002

摘要

通过单因素实验研究了三乙醇胺(N(C2H4OH)3)对恒电位法合成氧化钴/聚苯胺复合膜的影响.采用电化学测试技术、扫描电镜、X射线衍射和加速腐蚀实验等方法对膜层的耐腐蚀性能进行分析.结果表明,恒电位法合成的氧化钴/聚苯胺复合膜中,氧化钴以晶体形式存在,三乙醇胺的加入使复合膜的微观形貌由不致密不规则的片状形貌,转变为均匀致密的片状形貌.三乙醇胺加入2 g/L时,复合膜的自腐蚀电流达到9.09×10-7 A/cm2,自腐蚀电位达到-0.152 V,10％ HCl点滴腐蚀时间达496 s,10％ NaOH点滴实验时间467 s,中性盐雾实验48 h未见锈蚀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	牟世辉	沈阳理工大学材料科学与工程学院	20	107	6.0	9.0
2	林雪		4	4	1.0	2.0