三种方法制备铜基碳纳米管复合膜及其除砷性能对比

• 作者: 栾红艳 黄海鸥
• 来源期刊: 中国材料进展
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 真空蒸镀 真空抽滤 铜基复合膜 As(Ⅲ)去除
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 水科学材料专栏
• 页码范围: 127-132
• 页数: 6页
• 分类号: TB333.1|TB43
• 字数: 4118字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7502/j.issn.1674-3962.2018.02.07

摘要

采用磁控溅射、真空蒸镀和真空抽滤3种方法制备了铜基碳纳米管复合膜.运用扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射(XRD)对不同复合膜的形貌和表面化学性质进行表征,分析复合膜的结构对其除As效率的影响.通过实验探究3种方法制备的不同复合膜对As(Ⅲ)的去除效率以及不同碳纳米管和天然有机质对复合膜除As效率的影响.结果表明,磁控溅射镀铜的MWCNT-OH和MWCNT-COOH复合膜以及真空抽滤制备的MWCNT-OH复合膜对水中As(Ⅲ)的去除效率最高,均能达到90％左右,但水中天然有机质的存在会抑制磁控溅射镀铜膜对As(Ⅲ)的去除.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	栾红艳	北京师范大学环境学院	1	1	1.0	1.0
2	黄海鸥	北京师范大学环境学院	4	9	2.0	3.0