高功率脉冲磁控溅射复合电源及其电弧特性研究

• 作者: 姜亚南 李民久 熊涛 贺岩斌
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 高功率脉冲磁控溅射电源 复合电源 沉积速率 电弧抑制电路
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 页码范围: 47-50
• 页数: 4页
• 分类号: TB79|TM464
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2018.04.11

摘要

高功率脉冲磁控溅射因其高离化率得到广泛关注,是磁控溅射领域的新方向.随着对高功率脉冲磁控溅射放电和等离子特性的深入研究,制约高功率脉冲磁控溅射应用的主要不足有:沉积速率低,容易进入电弧放电影响膜层品质.本文从电源角度出发,针对高功率脉冲磁控溅射的高功率大电流特点,采用复合直流/脉冲电源提升高功率脉冲磁控溅射的沉积速率,采用电弧抑制电路避免电弧对膜层品质的危害.结果表明,复合高功率脉冲磁控溅射电源的设计有利于改善沉积速率;电弧抑制电路可快速检测,并通过电弧抑制回路快速释放残存能量,避免了电弧对高功率脉冲磁控溅射的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊涛		6	9	2.0	2.0
2	姜亚南		5	4	1.0	1.0
3	李民久		7	2	1.0	1.0
4	贺岩斌		5	13	1.0	3.0