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激光等离子体对硅表面微纳粒子除去机理研究
激光等离子体对硅表面微纳粒子除去机理研究
作者:
刘全喜
宋世军
王平秋
罗锦锋
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
激光技术
激光等离子体
辐射光谱
微纳粒子
表面清洗
摘要:
激光等离子体对精密元件表面微纳米粒子的有效去除,在纳米科研领域中有很大的应用潜力.为了深入研究激光等离子体对微粒的去除机理和条件,采用纳秒脉冲激光等离子体,对硅基底表面的微纳米粒子进行去除实验,观测了微粒的去除效果,并理论分析了等离子体的作用效应.结果表明,等离子体向外辐射宽谱光,紫外短波部分加速周围空气电离,使等离子体体积剧增,并有效提升基底和粒子温度;基底与粒子两者热膨胀度不同,使粒子更易于从基底剥离;同时等离子体向周围膨胀扩散形成高压冲击波,冲击波的压强高达GPa量级,可以克服微粒与基底之间的范德华力,而去除微纳米粒子,尤其对粒径大于0.5μm的去除效果尤其明显;在实际去除过程中,等离子体与基底的距离应该保持在0.2mm~2mm之间,这样既保证了微粒的有效去除,又不会造成基底的损伤.激光等离子体对微粒的去除效果明显,是等离子体辐射效应和冲击波效应的综合作用的结果.
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文献信息
篇名
激光等离子体对硅表面微纳粒子除去机理研究
来源期刊
激光技术
学科
物理学
关键词
激光技术
激光等离子体
辐射光谱
微纳粒子
表面清洗
年,卷(期)
2018,(4)
所属期刊栏目
激光与光电子技术应用
研究方向
页码范围
567-571
页数
5页
分类号
O539
字数
2545字
语种
中文
DOI
10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2018.04.025
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘全喜
17
84
5.0
8.0
2
王平秋
7
15
3.0
3.0
3
罗锦锋
信阳职业技术学院汽车与机电工程学院
9
7
1.0
2.0
4
宋世军
信阳职业技术学院汽车与机电工程学院
9
10
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1987(1)
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二级引证文献(0)
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
激光技术
激光等离子体
辐射光谱
微纳粒子
表面清洗
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
激光技术
主办单位:
西南技术物理研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-3806
CN:
51-1125/TN
开本:
大16开
出版地:
四川省成都市238信箱
邮发代号:
62-74
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
4090
总下载数(次)
10
总被引数(次)
25972
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