等离子物理气相沉积热障涂层研究进展

• 作者: 宫声凯 张宝鹏 徐惠彬 石佳 郭洪波 高丽华 魏亮亮
• 来源期刊: 航空材料学报
• 关键词: 等离子物理气相沉积(PS-PVD) 热障涂层 工艺 沉积机理
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 热障涂层
• 页码范围: 1-9
• 页数: 9页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.11868/j.issn.1005-5053.2018.001008

摘要

等离子物理气相沉积(plasma spray-physical vapor deposition,PS-PVD)是一种最近发展的功能薄膜与涂层制备技术.该技术结合了等离子喷涂(PS)和物理气相沉积(PVD)两种技术的特点,可以实现气、液、固多相的快速共沉积,进行涂层/薄膜微结构的高度柔性加工,并可实现复杂工件遮蔽区域的非视线均匀沉积,在热障涂层、环境障涂层、超硬耐磨涂层、透氧膜和电极膜等领域具有广阔的应用前景,被认为代表了高性能热/环境障涂层制备技术的发展方向.本文综述了PS-PVD的工作原理、技术特点以及近年来国内外在PS-PVD热障涂层制备科学和沉积机理等方面的研究进展,展望了新型高性能热障涂层制备技术的研究热点及未来的发展方向.