C19H42NBr对电合成氧化钴/聚苯胺复合膜腐蚀性能的影响

• 作者: 牟世辉 郝建军
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 恒电位法 氧化钴 耐蚀性 聚苯胺 十六烷基三甲基溴化铵 复合膜
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 表面失效与防护
• 页码范围: 214-218
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.07.031

摘要

目的 研究电化学合成氧化钴/聚苯胺复合膜时,添加剂十六烷基三甲基溴化铵(C19H42NBr)的含量对氧化钴/聚苯胺复合膜微观形貌及耐腐蚀性能的影响.方法 在硫酸钴-硫酸混合液与苯胺-硫酸混合液按照体积比1:1配制的电解液中,采用恒电位法合成氧化钴/聚苯胺复合膜,添加不同量的C19H42NBr,获得不同耐蚀性的氧化钴/聚苯胺复合膜.采用电化学测试技术,结合扫描电镜、X射线衍射仪和加速腐蚀试验等方法对膜层的耐腐蚀性能进行分析.结果 恒电位法合成的氧化钴/聚苯胺复合膜中,氧化钴以晶体形式存在.随着C19H42NBr添加量的增加,膜层的微观形貌由不致密、不规则的片状形貌逐渐变为均匀、致密、规则的片状形貌,再变为带有裂纹的整体片状形貌.未添加C19H42NBr得到的氧化钴/聚苯胺复合膜的自腐蚀电流密度为4.742×10?6 A/cm2,自腐蚀电位为?0.46 V.添加0.3 g/L的C19H42NBr后,试样的自腐蚀电流密度为2.622×10?7 A/cm2,自腐蚀电位为?0.069 V,10％HCl点滴腐蚀时间达483 s,中性盐雾实验56 h未见锈蚀.随着C19H42NBr添加量的增加,试样耐蚀性先提高后降低.结论 C19H42NBr的加入对电化学合成氧化钴/聚苯胺复合膜的作用明显,对复合膜的微观形貌及耐蚀性有很大的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郝建军	沈阳理工大学环境与化学工程学院	69	350	10.0	15.0
2	牟世辉	沈阳理工大学材料科学与工程学院	20	107	6.0	9.0