氩气压对磁控溅射制备CdZnTe薄膜形貌、结构和电学特性的影响

• 作者: 《功能材料》
• 来源期刊: 功能材料信息
• 学科: 工学
• 关键词: CDZNTE 迁移率 薄膜成分 磁控溅射 薄膜形貌 载流子浓度 衍射峰 晶体结构 溅射靶材 方块电阻 电学特性
• 年，卷（期）: gnclxx_2018,（3）
• 页码范围: 2-8
• 页数: 7页
• 分类号: TB383.2

摘要

引言碲锌镉(CdZnTe,CZT)是一种性能优异的Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料,具有高原子序数、高电阻率、优良的载流子输运特性等优点[1-3]。相对于体晶体,CZT薄膜可进行大面积制备,在太阳能电池、工业和医疗用X射线成像等领域具有重要应用前景[4-5].真空蒸镀、磁控溅射、近空间升华等方法均曾被应用于CZT薄膜的制备[1,6]。其中磁控溅射法的优点是薄膜均匀性好、成分可控,可低温制备等[7-7].人们曾经研究过溅射功率、衬底温度.