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残留时延对天线组阵窄带信号合成性能影响分析
残留时延对天线组阵窄带信号合成性能影响分析
作者:
杜黎明
杨与杰
杨喆
王俊彦
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
天线组阵
窄带信号
残留时延
合成损失
标准差
摘要:
为分析天线组阵窄带信号合成性能受残留时延影响的程度,给出了残留时延对合成性能影响的理论分析方法.首先建立了残留时延分布特性的仿真模型,详细描述了模型的设计思路.然后通过公式推导,提出了残留时延对窄带信号合成损失影响的理论公式.最后仿真并对比分析了不同参数条件下残留时延对窄带信号合成性能的影响,给出了残留时延引起的相位差的标准差与合成损失的关系,验证了理论公式的正确性.结果表明,残留时延引起的相位差越大,对窄带信号合成损失的影响也越大,若要求合成损失小于0.1 dB,则相位差的标准差约小于8.7.(约0.15 rad).该方法的提出和运用有助于确定残留时延对窄带信号合成损失影响的上下限.
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文献信息
篇名
残留时延对天线组阵窄带信号合成性能影响分析
来源期刊
光学与光电技术
学科
工学
关键词
天线组阵
窄带信号
残留时延
合成损失
标准差
年,卷(期)
2018,(1)
所属期刊栏目
光电测量
研究方向
页码范围
71-77
页数
7页
分类号
TN911.7
字数
4024字
语种
中文
DOI
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单位
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杜黎明
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残留时延
合成损失
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光学与光电技术
主办单位:
华中光电技术研究所
武汉光电国家实验室
湖北省光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-3392
CN:
42-1696/O3
开本:
大16开
出版地:
武汉市阳光大道717号
邮发代号:
38-335
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
2142
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