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摘要:
本文采用射频磁控溅射法在玻璃衬底表面制备了Al掺杂的ZnO薄膜(AZO膜)及AZO/Cu/AZO复合层薄膜,使用四探针薄膜方阻仪、分光光度计、XRD和辉光放电发射光谱仪对薄膜光电性能及成分进行了表征分析。研究了制备工艺参数和各膜层厚度对单层AZO及AZO/Cu/AZO薄膜光电性能的影响,并在衬底室温条件下制备了方阻低至65 Ω/□、平均透过率达85%的复合层薄膜。
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 AZO单层和AZO/Cu/AZO复合层薄膜光电性能的研究
来源期刊 材料科学 学科 物理学
关键词 ZnO 掺杂 复合层 溅射 方阻 透过率
年,卷(期) clkx_2018,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 664-676
页数 13页 分类号 O48
字数 语种
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研究主题发展历程
节点文献
ZnO
掺杂
复合层
溅射
方阻
透过率
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期刊影响力
材料科学
月刊
2160-7613
武汉市江夏区汤逊湖北路38号光谷总部空间
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