等离子体基低能氮离子注入金属钛的耐点蚀性能

• 作者: 夏飞 朱雪梅 杨旭
• 来源期刊: 大连交通大学学报
• 关键词: 等离子体基低能氮离子注入 金属Ti 点蚀 电化学交流阻抗谱(EIS)
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 字数: 2810字
• 语种: 中文
• DOI: 13291/j.cnki.djdxac.2018.05.009

摘要

采用等离子体基低能氮离子注入技术对纯Ti试样进行表面处理,研究了氮离子注入改性层在3.5％NaCl溶液中的耐点蚀性能及钝化膜的稳定性.结果表明:等离子体基低能氮离子注入纯Ti试样表面形成了厚度约为2μm的Ti2 N相改性层;在3.5％NaCl溶液中,与金属Ti相比,Ti2 N相改性层电化学交流阻抗谱(EIS)的容抗弧直径及|Z|值增加,相位角平台变宽,利用等效电路Rs-(Rp//CPE)拟合的电极电阻由6.44×104Ω·cm 2增大至2.26×105Ω·cm 2,电极反应阻力增大,耐点蚀性能提高.随着浸泡时间的增加,Ti2 N相改性层钝化膜电阻相近,皆保持在105Ω·cm 2量级,呈现良好的稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱雪梅	大连交通大学材料科学与工程学院	23	110	7.0	10.0
2	杨旭	大连交通大学材料科学与工程学院	2	1	1.0	1.0
3	夏飞	大连交通大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0