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高功率脉冲磁控溅射技术的研究及应用
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摘要：
高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)是最新发展起来并受到广泛关注的一种高离化率物理气相沉积技术.本文首先从高功率脉冲磁控溅射技术原理与特点出发,然后简单介绍了高功率脉冲磁控溅射技术发展过程及目前研究现状,最后重点分析了高功率脉冲磁控溅射技术目前存在的问题及未来发展趋势.
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高功率脉冲磁控溅射
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研究主题发展历程
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高功率脉冲
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薄膜
研究起点
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相关学者/机构
期刊影响力
真空
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
开本：
大16开
出版地：
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号：
8-30
创刊时间：
1964
语种：
chi
出版文献量（篇）
2692
总下载数（次）
3
总被引数（次）
12898
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