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摘要:
采用CMOS兼容工艺,在绝缘体上硅(SOI)晶圆片上制备了高性能波导集成型锗pin光电探测器.该光电探测器锗区长度为15μm,宽度分别为1,2,3,4和5μm.光波导与探测器间的光耦合为倏逝波耦合.为了进一步提高探测器的性能,在结构设计上采用了聚焦耦合光栅及楔形耦合增强结构,在材料生长方面采用了选择性外延生长法,以提高锗的质量.通过暗电流、响应度、带宽及眼图测试对光电探测器性能进行了表征.测试结果表明在-2V的反向偏压下,尺寸为15μm×4 μtm的光电探测器暗电流低至169 nA,其在波长1530 nm处的最高响应度为0.43 A/W,3 dB带宽高达48 GHz并获得40 Gbit/s的清晰眼图.
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文献信息
篇名 高性能波导集成型锗pin光电探测器的制备
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 光电探测器 波导集成 选择性外延 锗(Ge) pin 绝缘体上硅(SOI)
年,卷(期) 2018,(5) 所属期刊栏目 器件与技术
研究方向 页码范围 305-311
页数 7页 分类号 TN36
字数 语种 中文
DOI 10.13250/j.cnki.wndz.2018.05.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张鹏 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室 220 1605 21.0 32.0
2 李志华 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室 10 21 3.0 4.0
3 唐波 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室 18 103 6.0 9.0
4 刘道群 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室 2 3 1.0 1.0
8 冯俊波 中国电子科技集团公司第三十八研究所 4 10 2.0 3.0
9 王桂磊 中国科学院微电子研究所 2 7 2.0 2.0
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节点文献
光电探测器
波导集成
选择性外延
锗(Ge)
pin
绝缘体上硅(SOI)
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研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
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微纳电子技术
月刊
1671-4776
13-1314/TN
大16开
石家庄市179信箱46分箱
18-60
1964
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