关于Sputtering工艺在液晶TFT生产中的应用

• 作者: 庞华山 毛继禹 王立夫 盛大德 章旭
• 来源期刊: 制造业自动化
• 学科: 工学
• 关键词: 靶材溅射 铟锡氧化物 薄膜晶体管
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 加工与制造
• 页码范围: 71-72
• 页数: 2页
• 分类号: TN837.93
• 字数: 1126字
• 语种: 中文

摘要

在液晶TFT生产领域中,Sputtering工艺得到了较好的应用,通过对Sputtering生产工艺的讲述,解析Sputtering工艺生产中各重要环节,并对Sputtering生产工艺进行探究,为生产应用提供有力帮助.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	毛继禹		12	10	2.0	3.0
2	王立夫		8	18	3.0	4.0
3	庞华山		13	21	3.0	4.0
4	章旭		5	6	1.0	2.0
5	盛大德		10	15	2.0	3.0