新型5×5分束达曼光栅的设计与制作

• 作者: 周丽 周哲海 李劲劲 王晓玲 王雪深 邢海斌 钟青
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 达曼光栅 二元光学 光刻 邻近效应 深刻蚀
• 年，卷（期）: 2018,（9）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 677-682
• 页数: 6页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2018.09.009

摘要

基于理论设计了一种面内旋转对称的新型5×5分束达曼光栅,研究并优化了光栅制作中曝光、显影及深刻蚀等关键工艺参数.采用接触式曝光和感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术,在石英基底上制作出达曼光栅结构.实验中通过优化石英基底上接触式曝光时间和显影时间,较好控制了曝光图形失真;进一步通过控制ICP刻蚀工艺参数,获得了刻蚀深度为(750±10) nm的石英衬底,实现了达曼光栅器件的制备.通过衍射光学特性评测得到了理论设计的零级衍射场均匀分布的5×5点阵,总的衍射效率达到53％,不均匀性仅为0.19％.实验证明了理论设计与工艺技术的可靠性,为达曼光栅器件的集成光学系统应用奠定基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟青		13	23	3.0	4.0
2	周哲海	北京信息科技大学光电测试技术北京市重点实验室	64	72	4.0	5.0
3	王晓玲	北京信息科技大学光电测试技术北京市重点实验室	21	25	3.0	4.0
4	李劲劲		8	11	3.0	3.0
5	周丽	北京信息科技大学光电测试技术北京市重点实验室	2	1	1.0	1.0
6	邢海斌	北京信息科技大学光电测试技术北京市重点实验室	1	0	0.0	0.0
7	王雪深		5	4	1.0	2.0