氯碱工业离子膜电解槽内气液相返混研究

• 作者: 刘云义 刘国桢 刘秀明 岳春佳 张丽 李佑平 由钢
• 来源期刊: 中国氯碱
• 学科: 工学
• 关键词: 氯碱工业 离子膜电解槽 停留时间分布 返混 多釜串联模型
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 烧碱
• 页码范围: 8-10,29
• 页数: 4页
• 分类号: TQ114.26+2
• 字数: 2570字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-1785.2018.01.004

摘要

利用计算流体力学软件对零极距自然循环离子膜电解槽内气液相停留时间分布进行了研究,考察了电流密度对电解槽内气液相返混程度的影响.结果表明,随着电流密度增大,电解槽内液相返混程度降低;当电流密度为5 kA/m2时,电解槽内液相的多釜串联模型参数为2.782,该值可为高电流密度电解槽设计提供参考.电解槽内气相返混随着电流密度增加先增大后减小,在电流密度为6 kA/m2时,返混程度达到最大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘云义	沈阳化工大学化学工程学院	82	515	11.0	18.0
2	张丽	沈阳化工大学化学工程学院	56	452	9.0	20.0
3	刘国桢		12	26	3.0	4.0
4	李佑平	沈阳化工大学化学工程学院	4	1	1.0	1.0
5	岳春佳	沈阳化工大学化学工程学院	1	0	0.0	0.0
6	由钢	沈阳化工大学化学工程学院	2	0	0.0	0.0