化学气相沉积六方氮化硼涂层的制备及应用

• 作者: 刘荣军 张长瑞 李斌 李端 王思青 高世涛
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 六方氮化硼 涂层 工艺 应用
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 1929-1935,1950
• 页数: 8页
• 分类号: TB34
• 字数: 5720字
• 语种: 中文

摘要

六方氮化硼(h-BN)涂层是一种性能优异的功能陶瓷材料,介绍了化学气相沉积( CVD)六方氮化硼涂层的制备工艺,综述了h-BN涂层的优异性能和应用现状,并对其研究发展趋势进行了展望.认为先驱体性能存在缺陷、沉积机理复杂、工艺可控性差、生产成本高是目前CVD制备h-BN涂层存在的主要工艺问题,指出今后还需在新型先驱体的研发和使用、沉积机理的深入探究、工艺优化和放大等方面开展深入研究,以实现h-BN涂层的大规模工业化生产和应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张长瑞	国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室	138	1800	24.0	32.0
2	刘荣军	国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室	29	360	13.0	18.0
3	李斌	国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室	18	94	6.0	9.0
4	王思青	国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室	24	351	10.0	18.0
5	高世涛	国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室	1	1	1.0	1.0
6	李端	国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室	1	1	1.0	1.0