调制比对TC4/ZrB2多层膜结构和机械性能的影响

• 作者: 李德军 聂宇尧 董磊
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 TC4/ZrB2纳米多层膜 界面 高温稳定性
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 物理与材料科学
• 页码范围: 14-19
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 5286字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19638/j.issn1671-1114.20180104

摘要

为研究不同调制比对TC4/ZrB2(tTC4∶tZrB2)纳米多层膜结构和机械性能的影响,采用磁控溅射镀膜技术在Si基底上设计制备了一系列具有不同调制比(tTC4∶tZrB2)的TC4/ZrB2纳米多层薄膜,利用X线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(HRTEM)和纳米压痕系统对多层膜的晶体结构、断面形貌、硬度、弹性模量和膜基结合情况进行测量,并通过退火处理对多层膜的热稳定性进行分析.结果表明:界面的扩散和畸变抑制了两调制层的结晶生长,使多层膜呈非晶结构.在tTC4∶tZrB2为1∶5时,多层膜的硬度和弹性模量均达到最大,分别为22.40 GPa和263.11 GPa.在550℃退火后,多层膜硬度增加约2.6 GPa.分析认为,两材料的模量差和界面处形成的交变应力场强化了材料的硬度,而混合界面的存在增强了多层膜的高温稳定性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李德军	天津师范大学物理与材料科学学院	73	242	7.0	11.0
5	董磊	天津师范大学物理与材料科学学院	17	30	3.0	4.0
9	聂宇尧	天津师范大学物理与材料科学学院	3	1	1.0	1.0