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偶联剂改性纳米硅溶胶的接枝率及稳定性
偶联剂改性纳米硅溶胶的接枝率及稳定性
作者:
杨光
邓安仲
陈静波
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
纳米硅溶胶
硅烷偶联剂
接枝改性
接枝率
影响机理
摘要:
为改善纳米硅溶胶与有机物间的亲和性及分散稳定性,用硅烷偶联剂对碱性纳米硅溶胶进行表面接枝改性.分析了偶联剂用量、反应温度和反应时间对接枝率、分散稳定性及微观形貌的影响.结果表明,偶联剂K H560更适合做碱性纳米硅溶胶的表面改性剂,且制备的改性纳米硅溶胶表面可接枝K H560;从接枝率变化梯度来看,K H560用量对接枝率影响最大,当K H560含量为12.5%、反应时间为5h、反应温度为60℃时,改性接枝率及Zeta电位绝对值最高,分别为7.37% 和55.6mV.
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文献信息
篇名
偶联剂改性纳米硅溶胶的接枝率及稳定性
来源期刊
材料科学与工程学报
学科
工学
关键词
纳米硅溶胶
硅烷偶联剂
接枝改性
接枝率
影响机理
年,卷(期)
2018,(2)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
286-290
页数
5页
分类号
TQ264.12
字数
2548字
语种
中文
DOI
10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2018.02.023
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
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被引次数
H指数
G指数
1
杨光
114
296
8.0
14.0
2
邓安仲
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46
4.0
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节点文献
纳米硅溶胶
硅烷偶联剂
接枝改性
接枝率
影响机理
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料科学与工程学报
主办单位:
浙江大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1673-2812
CN:
33-1307/T
开本:
大16开
出版地:
浙江杭州浙大路38号浙江大学材料系
邮发代号:
创刊时间:
1983
语种:
chi
出版文献量(篇)
4378
总下载数(次)
9
总被引数(次)
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