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摘要:
基于辅助阳极的电场增强高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术改善了常规HiPIMS放电及镀膜过程.研究工作参数对电场增强HiPIMS的调制作用可为该技术的应用提供理论依据.利用数字示波器收集HiPIMS基体离子电流,分析了不同工作气压、靶基间距、脉冲频率和脉冲宽度等工作参数对基体离子电流的调制作用规律.利用扫描电镜观察了钒膜的截面形貌特征.结果表明:在相同的靶电压下,基体离子电流平均值随工作气压的增加而增加并逐渐达到饱和值;随靶基间距的增加基体离子电流平均值逐渐减小;随脉冲频率的增加基体离子电流平均值逐渐减小后趋于稳定;当脉冲宽度为150 μs时的基体离子电流平均值高于脉冲宽度为200 μs时的基体离子电流平均值.工作参数对膜层的制备具有调制作用,在适中的工作参数下,电场增强HiPIMS获得的钒膜与基底结合良好、膜层致密完整.
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关键词云
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文献信息
篇名 工作参数对电场增强高功率脉冲磁控溅射的调制作用研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 工学
关键词 高功率脉冲磁控溅射 辅助阳极 工作气压 靶基间距 钒膜 放电特性
年,卷(期) 2018,(5) 所属期刊栏目 工艺设备
研究方向 页码范围 400-406
页数 7页 分类号 TG174.444
字数 语种 中文
DOI 10.13922/j.cnki.cjovst.2018.05.10
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张旭 东北林业大学工程技术学院 24 67 4.0 7.0
2 田修波 哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室 106 515 11.0 17.0
3 张群利 东北林业大学工程技术学院 41 87 6.0 7.0
4 李春伟 东北林业大学工程技术学院 47 100 5.0 7.0
6 陈春晟 东北林业大学工程技术学院 32 66 5.0 6.0
7 徐淑艳 东北林业大学工程技术学院 32 100 6.0 9.0
8 郑权 东北林业大学工程技术学院 12 21 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
高功率脉冲磁控溅射
辅助阳极
工作气压
靶基间距
钒膜
放电特性
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