沉钒上层液用硫酸铝除硅制备低硅氢氧化铬研究

• 作者: 孙丽月 庄立军 杨锦铭
• 来源期刊: 无机盐工业
• 关键词: 沉钒上层液 硫酸铝除硅 低硅氢氧化铬
• 年，卷（期）: 2018,（12）
• 所属期刊栏目: 工业技术
• 页码范围: 51-53
• 页数: 3页
• 分类号: TQ136.11
• 语种: 中文

摘要

钒渣提钒过程产生的沉钒上层液中六价铬质量浓度为0.3～6.5 g/L、硅质量浓度为0.3～0.9 g/L.沉钒上层液中含有铬(Ⅵ),若直接排放对人类的健康危害较大.以硫酸铝为脱硅剂,采用沉淀法脱除沉钒上层液中的硅制备低硅氢氧化铬.实验结果表明,在除硅温度为65 ～75℃、溶液pH为8.5～9.5、硅铝质量比为1:0.4、除硅时间为20～30 min条件下,除硅率达到95％以上,制备的氢氧化铬中硅质量分数(以二氧化硅计)达到0.26％.制备的低硅氢氧化铬可以作为产品出售,也可以作为冶炼低硅金属铬的原料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	庄立军		4	3	1.0	1.0
2	孙丽月		3	2	1.0	1.0
3	杨锦铭		1	2	1.0	1.0