沉积气压对磁控溅射Ta2O5薄膜光学性能的影响

• 作者: 宋鸿佳 李园 郭云鹏 郭蓉 黄美东
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Ta2O5薄膜 光学性能 沉积气压
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 页码范围: 26-29
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|TB742
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2018.03.06

摘要

本文采用射频磁控溅射技术分别在玻璃和硅基底上沉积Ta2O5薄膜,研究沉积气压的变化对薄膜光学性能的影响规律.利用UV-3600分光光度计、 椭圆偏振谱仪对薄膜的光学常数及性能进行了测试.结果表明,薄膜的沉积速率随着沉积气压的增大而减小,0.6 Pa时沉积速率达最大为0.011 nm/s.在可见光区所有薄膜的平均透射率均大于80％,属于透明薄膜.薄膜的平均透射率随着沉积气压的增大而增大,当沉积气压为1.2 Pa时平均透射率最大值为85.37％,通过传输矩阵法拟合计算,验证了Ta2O5薄膜的光学常数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
2	郭云鹏	天津师范大学物理与材料科学学院	4	4	1.0	1.0
3	李园	天津师范大学物理与材料科学学院	3	2	1.0	1.0
4	郭蓉	天津师范大学物理与材料科学学院	2	2	1.0	1.0
5	宋鸿佳	天津师范大学物理与材料科学学院	3	2	1.0	1.0