直流磁控溅射法制备PEN/Ti复合振膜

• 作者: 丁雨田 孟斌 许佳玉 陈建军 马元俊 高钰璧
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 复合振膜 弹性模量 磁控溅射 工艺参数
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺·技术
• 页码范围: 5169-5173,5179
• 页数: 6页
• 分类号: TB79|TB534
• 字数: 3382字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.05.029

摘要

采用直流磁控溅射法在聚2,6-萘乙酸乙二醇酯(PEN)柔性薄膜衬底上制备了纯钛薄膜.研究了溅射气压与溅射功率对薄膜微观组织及硬度的影响,确定了最佳的溅射工艺参数.研究表明,直流磁控溅射法在PEN柔性衬底上沉积的钛膜是一种纳米薄膜且为多晶薄膜;在溅射气压为8.5×10-1Pa、溅射功率为140 W时,直流磁控溅射法制备的钛镀层晶粒尺寸细小且均匀分布在衬底上,镀层硬度高,复合振膜宏观表面平整,结合力良好,此工艺参数为最佳的工艺参数,薄膜沉积速率为2.11 nm/s.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁雨田	兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室	172	1117	15.0	22.0
2	高钰璧	兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室	20	19	3.0	3.0
3	陈建军	兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室	12	5	2.0	2.0
4	许佳玉	兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室	11	5	2.0	2.0
5	孟斌	兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室	7	9	2.0	3.0