基于多苯烯丙基醚无氟抗粘的巯基-烯纳米压印光刻胶

• 作者: 庞浩 廖兵 李桃 汪慧怡 罗业燊 雍奇文 韦代东
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外纳米压印 光刻胶 巯基-烯反应 无氟抗粘 脱模
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 材料与结构
• 页码范围: 401-407
• 页数: 7页
• 分类号: TQ577.35
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2018.06.004

摘要

为了减小纳米压印光刻胶与模板间的接触黏附力,合成了一种无氟抗粘巯基-烯纳米压印光刻胶.以Α,Α,Α′-三(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯(TPA)和溴丙烯为原料,采用相转移催化法制备了一种功能性单体Α,Α,Α′-三(4-丙烯基苯基醚)-1-乙基-4-异丙苯(TPAE),并将其按特定配比与三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)和光引发剂配制成纳米压印光刻胶.实时傅里叶红外光谱(FT-IR)分析表明,当辐射剂量为200 mJ/cm2时,双键的转化率为78.0％,巯基的转化率为78.1％.胶膜的去离子水接触角为90°.纳米压印光刻胶脱模后的图形结构规整,保真度高,具有良好的脱模性能.