双脉冲磁控溅射峰值靶电流密度对TiN薄膜结构与力学性能的影响

• 作者: 时惠英 杨超 王迪 蒋百灵 黄蓓
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiN薄膜 双脉冲磁控溅射技术 双脉冲电场 峰值靶电流密度 力学性能
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 页码范围: 927-934
• 页数: 8页
• 分类号: TG43
• 语种: 中文
• DOI: 10.11900/0412.1961.2017.00406

摘要

自主研发了双脉冲磁控溅射技术,提出在一个脉冲周期内电流呈阶梯式上升的双脉冲电场设计理念,通过对2个脉冲阶段持续时间和峰值靶电流密度的调配,既满足提高镀料粒子动能与离化率以制备高性能薄膜的工艺要求,又达到增加脉冲持续时间以提高薄膜沉积速率的效能目标.采用双脉冲磁控溅射技术,在后期脉冲阶段的不同峰值靶电流密度下制备4组TiN薄膜,研究了峰值靶电流密度对薄膜微观结构和力学性能的影响.结果表明,将峰值靶电流密度提高至0.87 A/cm2时,所制备的TiN薄膜呈现出颗粒细小且致密的组织,平均晶粒尺寸为17 nm.同时,薄膜的显微硬度和膜基结合力可分别达29.5 GPa和30.0 N.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵		241	5240	40.0	64.0
2	时惠英		36	596	15.0	24.0
3	杨超		31	144	7.0	10.0
4	黄蓓		3	1	1.0	1.0
5	王迪		6	14	1.0	3.0