冷喷涂工艺参数对TC4涂层性能的影响

• 作者: 姚罡 崔向中 彭徽 李文亚 靳磊
• 来源期刊: 宇航材料工艺
• 学科: 工学
• 关键词: 冷喷涂 TC4涂层 工艺参数 涂层性能
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 新材料新工艺
• 页码范围: 62-66
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 3310字
• 语种: 中文
• DOI: 10.12044/j.issn.1007-2330.2018.01.012

摘要

为了研究冷喷涂技术在TC4基板上沉积TC4涂层的性能,分析了喷涂气体种类和温度对涂层孔隙率、硬度和粉末利用率的影响规律.采用N2和He两种气体以及400、500和600℃进行喷涂工艺试验研究.结果表明:在He或者N2下,温度越高,制备的涂层越致密,涂层硬度越高,粉末利用率也越高;相同气体温度条件下,采用He制备的涂层较N2更加致密,涂层硬度更高,粉末利用率也较N2高.采用He、气体温度600℃、啧涂压力0.9 MPa,制备的涂层孔隙率低到0.8％,硬度达到440 HV0.2,硬度相对基体提高33％,粉末利用率高达88.2％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李文亚	西北工业大学材料科学与工程学院凝固技术国家重点实验室	84	512	11.0	17.0
2	崔向中	北京航空制造工程研究所高能束流加工技术重点实验室	8	16	3.0	3.0
3	姚罡	北京航空制造工程研究所高能束流加工技术重点实验室	6	21	3.0	4.0
4	靳磊	北京航空制造工程研究所高能束流加工技术重点实验室	6	13	3.0	3.0
5	彭徽	北京航空航天大学材料科学与工程学院	12	115	5.0	10.0