脉冲宽量对GCr15基体温升及其镀层结构与性能的影响

• 作者: 丁郁航 张静 杨钊 蒋百灵 郝娟 郭腾
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 离子镀 基体温升 GCr15 Ti薄膜 力学性能
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 材料表面改性
• 页码范围: 97-104
• 页数: 8页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.13289/j.issn.1009-6264.2017-0372

摘要

采用离子镀技术于淬火态GCr15表面沉积Ti镀层,通过改变脉冲宽量,对GCr15基体温升进行控制.采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、显微硬度计、纳米压痕仪、洛氏硬度计、光学显微镜等研究脉冲宽量对镀层的微观组织及力学性能的影响.结果表明:脉冲电场模式下,脉冲宽量为2 ms时,基体温升得到有效控制,且随着脉冲宽量的增大,基体温升从40℃升高到275℃时,薄膜晶化程度增强,平均晶粒尺寸由10.1 nm增大至14.6 nm,硬度、弹性模量提高约50％,韧性降低约18％,膜基结合力降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
3	张静	西安理工大学材料科学与工程学院	50	71	5.0	7.0
6	郭腾	西安理工大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
7	郝娟	西安理工大学材料科学与工程学院	7	6	1.0	2.0
8	丁郁航	西安理工大学材料科学与工程学院	3	1	1.0	1.0
9	杨钊	西安理工大学材料科学与工程学院	2	1	1.0	1.0