基材种类对DMSO体系中电沉积碲化铋薄膜热电材料的影响

• 作者: 巩运兰 李菲晖 高镜涵
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 铜 镍 铂 碲化铋 薄膜 二甲基亚砜 电沉积 电化学
• 年，卷（期）: 2018,（12）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 519-525
• 页数: 7页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 5476字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2018.12.001

摘要

采用循环伏安、极化曲线和电化学阻抗谱研究了DMSO溶剂体系中Bi(Ⅲ)、Te(Ⅳ)分别在Cu、Ni和Pt金属基材上的还原行为.结果表明,一元体系中Bi(Ⅲ)、Te(Ⅳ)离子在不同金属基体上的还原均为不可逆过程,还原顺序为Pt→Cu→Ni.在Bi–Te二元体系中,还原过程是分步进行的,还原顺序为Pt→Ni→Cu.通过恒电位沉积方式在Cu基体上电沉积制备了Bi–Te薄膜热电材料.分别采用金相显微镜和X射线衍射仪并对其形貌和物相结构进行了表征,并对其塞贝克系数作了测试.在?0.5、?0.6和?0.7V(相对于饱和甘汞电极)下电沉积制备的薄膜热电材料中均含有Bi2Te3以及单质Bi,且表现出N型半导体的特征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高镜涵	天津商业大学生物技术与食品科学学院化学系	8	12	1.0	3.0
2	李菲晖	天津商业大学生物技术与食品科学学院化学系	18	33	3.0	5.0
3	巩运兰	天津商业大学生物技术与食品科学学院化学系	21	47	4.0	6.0