高熔点金属Ir和Mo电子束区熔中不同取向晶体的竞争生长

• 作者: 刘振鹏 刘毅 李双明 王斌强 罗锡明 胡锐 钟宏
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束区熔 晶粒竞争生长 界面能各向异性 择优取向
• 年，卷（期）: 2018,（10）
• 页码范围: 1435-1441
• 页数: 7页
• 分类号: TG292
• 语种: 中文
• DOI: 10.11900/0412.1961.2018.00013

摘要

通过分析bcc结构金属Mo和fcc结构金属Ir电子束区熔中3种不同取向[100]、[110]和[111]晶体生长,发现金属Mo在平界面凝固下会以[110]取向择优生长,而在凸界面下可能存在[100]和[110]2种择优生长方向,取决于界面能各向异性参数a1和a2的相对大小,说明电子束区熔中金属Mo单晶通常呈现[110]择优取向,而不是通常认为的[100]择优取向.无论是在平界面还是凸界面下,fcc结构高熔点金属Ir始终以[100]择优取向生长,并通过Ir单晶生长实验得到验证.电子束区熔下需综合考虑晶体生长曲率过冷度和动力学过冷度的影响,小尺寸试样(晶粒尺寸在毫米量级及以下)中晶向选择和淘汰取决于曲率过冷度;大尺寸试样(晶粒尺寸在厘米量级及以上)的晶向选择和淘汰主要依靠动力学过冷度.