外束PIXE束流均匀性测量与改善

• 作者: 仇猛淋 党永乐 殷鹏 王广甫 胥密 褚莹洁 郑力
• 来源期刊: 北京师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 外束PIXE 束流均匀性 光栏 IP板
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 页码范围: 472-475
• 页数: 4页
• 分类号: TL52
• 字数: 3417字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16360/j.cnki.jbnuns.2018.04.007

摘要

外束PIXE束流均匀性是对非均匀性样品进行PIXE定量分析的基础.利用IP板对北京师范大学GIC4117 2×1.7MV串列加速器外束PIXE束流均匀性进行了测量.通过在准直光栏前改用5μm的铝箔散焦膜,并用刀口厚度仅为0.1 mm的铝准直光栏代替原有的碳准直光栏,改善前外束PIXE束流中心直径3.6 mm内的离散程度为-65％～50％,改善后为-4.9％～2.8％.改善后的PIXE可直接用于Tisch安德森8级气溶胶采样器样品的元素定量分析,以及PIXE公司的分级式撞击采样仪第1～7级样品的元素定量分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王广甫	北京师范大学核科学与技术学院	45	220	7.0	13.0
3	褚莹洁	北京师范大学核科学与技术学院	4	1	1.0	1.0
4	仇猛淋	北京师范大学核科学与技术学院	6	1	1.0	1.0
5	胥密	北京师范大学核科学与技术学院	4	1	1.0	1.0
7	郑力	北京师范大学核科学与技术学院	3	1	1.0	1.0
10	党永乐	北京师范大学核科学与技术学院	5	3	1.0	1.0