磁控溅射VO2薄膜的制备及光学性能研究

• 作者: 张鹏宇 黄美东
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: VO2薄膜 磁控溅射 结构 光学性能
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 页码范围: 52-55
• 页数: 4页
• 分类号: TB742|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2018.01.12

摘要

本文采用超高真空射频磁控溅射法,通过改变沉积气压、沉积时间以及进行退火处理在普通白玻基底上制备VO2薄膜.利用XD-3型X射线衍射仪对薄膜的物相进行分析,UV-3600多功能分光光度计测试薄膜在可见光段的透过率,XP-2型台阶仪测试薄膜样品的厚度,扫描电子显微镜观察样品的微观形貌.结果表明,沉积气压为0.7Pa时获得的薄膜在可见光波段具有较高的透过率;沉积时间为60min时,薄膜较为平整且对可见光的透过率较高为38％;退火处理提高了薄膜的结晶性和透过率,制备出单斜结构的VO2薄膜,且具有(011)晶面择优取向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
2	张鹏宇		27	74	5.0	7.0