靶电流密度对热丝增强等离子磁控溅射制备Cr2N薄膜结构与性能的影响

• 作者: 周艳文 张鑫 王晓明 解志文 郭媛媛 高健波
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体增强磁控溅射 Cr2N薄膜 靶电流密度 结构 性能
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 研究·开发
• 页码范围: 3070-3075
• 页数: 6页
• 分类号: TB741|TB34
• 字数: 4581字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.03.010

摘要

采用等离子体增强平衡磁控溅射技术在316L奥氏体不锈钢基体表面制备了不同靶电流密度条件下的Cr2N薄膜,并检测分析了靶电流密度对薄膜表面形貌、相结构、力学性能、膜基结合力和摩擦磨损性能的影响.结果表明,薄膜呈致密柱状结构,以 Cr2N(111)择优取向为主.当靶电流密度为0.132 mA/mm2时,WN 相与Cr2N并存;随着靶电流密度的增加,薄膜厚度逐渐增加,硬度、弹性模量略有下降,膜基结合增强.薄膜与基体结合处呈脆性失效.靶电流密度0.132 mA/mm2时,最高薄膜硬度及模量分别为33及480 GPa,且磨损量最小.靶电流密度0.264 mA/mm2时,最大膜机结合力为36.6 N.经过镀 Cr2N 薄膜后,试样表面硬度、耐磨性明显提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王晓明	辽宁科技大学表面工程研究所	13	15	3.0	3.0
2	周艳文	辽宁科技大学表面工程研究所	46	32	3.0	5.0
3	解志文	辽宁科技大学表面工程研究所	15	31	3.0	5.0
4	张鑫	辽宁科技大学表面工程研究所	14	10	2.0	3.0
5	郭媛媛	辽宁科技大学表面工程研究所	16	7	2.0	2.0
6	高健波	辽宁科技大学表面工程研究所	4	6	2.0	2.0