电子束曝光邻近效应修正研究

• 作者: 刘维维 尤春
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 掩模 电子束曝光 邻近效应 PEC
• 年，卷（期）: 2018,（10）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性
• 页码范围: 40-43,47
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2906字
• 语种: 中文

摘要

随着半导体工业的不断发展,掩模上图形的尺寸也越来越小,邻近效应越来越严重,对邻近效应的修正也就越发重要、越发困难.主要介绍了邻近效应及其产生机理,并以Leica SB350电子束曝光机为手段,结合实验数据,使用PARAPROX软件建立PEC (proximity effect correction parameter files)文件,确定相应校正参数,对邻近效应进行修正,在实际应用中取得了较好的效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	尤春		7	14	2.0	3.0
2	刘维维		3	0	0.0	0.0