高熵合金AlCrNbSiTiV氮化物薄膜溅镀参数的优化

• 作者: 万松峰 张钰乾 许春耀
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 高熵合金 氮化物 薄膜 刀具 直流反应式磁控溅射 田口方法 灰关联分析 多目标优化
• 年，卷（期）: 2018,（15）
• 所属期刊栏目: 工艺开发
• 页码范围: 677-682
• 页数: 6页
• 分类号: TG13|TG174.44
• 字数: 3155字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2018.15.005

摘要

以AlCrNbSiTiV为靶材,用反应式磁控溅镀系统分别在住友BNX20刀具和硅晶片上沉积高熵合金氮化物(AlCrNbSiTiV)N薄膜.采用田口方法的L9(34)正交表考察了沉积时间、基材偏压、溅射功率和基材温度对沉积速率、薄膜硬度和刀具寿命的影响,通过方差分析(ANOVA)确定了影响各性能的主要因素.对信噪比(S/N)进行灰关联分析以实现多目标优化,得出最佳工艺参数为:沉积时间20 min,基材偏压-100 V,溅射功率250 W,基材温度400°C.在该条件下,沉积速率为17.28 nm/min,薄膜硬度达到2814 HV,刀具寿命2.50 m.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	万松峰	东莞职业技术学院机电工程系	33	127	6.0	10.0
2	张钰乾	东莞职业技术学院机电工程系	1	2	1.0	1.0