射频磁控溅射制备(AlCrTiZrNb)N高熵合金薄膜的微观组织和力学性能

• 作者: 刘平 刘新宽 张柯 李伟 陈小红 马凤仓 黄纯可
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: (AlCrTiZrNb)N高熵合金薄膜 射频磁控溅射 微观组织 力学性能
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 487-493
• 页数: 7页
• 分类号: TG146.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2018.06.08

摘要

研究了氮含量对(AlCrTiZrNb)N高熵合金薄膜微观结构和力学性能的影响,利用射频磁控溅射工艺在不同N2和Ar流量比下制备了(AlCrTiZrNb)N高熵合金薄膜.结果表明,随着氮气流量的升高,(AlCrTiZrNb)N薄膜的沉积速率逐渐下降,AlCrTiZrNb合金薄膜的结构由非晶态转变为由Me-N(金属氮化物)构成的面心立方固溶体结构,(AlCrTiZrNb)N薄膜的择优生长取向为(200)晶面.同时随着N2流量的增加,(AlCrTiZrNb)N高熵合金薄膜的硬度首先快速升高,随后略微降低.当N2∶Ar=1∶1时,(AlCrTiZrNb)N薄膜硬度最大值28.324 GPa,此时(AlCrTiZrNb)N薄膜呈现单一的面心立方固溶体结构,饱和Me-N相的形成与各元素的固溶强化作用是其硬度的增长的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘平	上海理工大学材料科学与工程学院	212	1078	16.0	22.0
2	陈小红	上海理工大学材料科学与工程学院	123	622	13.0	18.0
3	李伟	上海理工大学材料科学与工程学院	131	544	12.0	19.0
4	马凤仓	上海理工大学材料科学与工程学院	109	494	12.0	18.0
5	刘新宽	上海理工大学材料科学与工程学院	137	518	12.0	18.0
6	张柯	上海理工大学材料科学与工程学院	36	52	4.0	6.0
7	黄纯可	上海理工大学材料科学与工程学院	2	12	1.0	2.0