一种提高掩模条宽(CD)性能方法的研究

• 作者: 刘维维 季书凤 尤春 胡超
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 相移掩模 条宽偏差 条宽偏差控制 干法蚀刻
• 年，卷（期）: 2018,（9）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性
• 页码范围: 42-44,48
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2511字
• 语种: 中文

摘要

提出了一种提高相移掩模(PSM)条宽偏差(CD MTT,mean to target)精度的方法.在掩模制备过程中,条宽偏差的影响因素很多,基板材质、图形以及工艺过程均会对CD MTT产生影响.研究中提出了减小掩模工艺过程中CD MTT的方法,通过对相移层蚀刻前金属层CD进行测量,评估计算对金属层进行加蚀刻,实现对PSM掩模最终CD MTT的控制.同时确定了图形密度对CDMTT的影响,有效地提高了PSM掩模条宽性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡超		5	11	2.0	3.0
2	尤春		7	14	2.0	3.0
3	刘维维		3	0	0.0	0.0
4	季书凤		1	0	0.0	0.0