工艺条件对ZL205A铝合金微弧氧化膜的影响

• 作者: 李争显 李宏战 李少龙 杜继红 王毅飞 马幼平
• 来源期刊: 腐蚀与防护
• 学科: 工学
• 关键词: ZL205A铝合金 微弧氧化 工艺条件
• 年，卷（期）: 2018,（11）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 883-887
• 页数: 5页
• 分类号: TG147
• 字数: 3355字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11973/fsyfh-201811014

摘要

在硅酸钠电解液体系中,采用不同工艺在ZL205A铝合金表面制备微弧氧化层.通过测厚仪、扫描电镜、X射线衍射仪等研究了氧化电压和氧化时间对膜层性能的影响.结果表明:氧化膜主要由α-Al2O3、Mullite (Al6Si2O13)、Al相及非晶相组成;氧化层的放电通道孔径尺寸随氧化电压、时间的增加不断增大;随着氧化电压、时间的增加,氧化层厚度呈线性增长;氧化膜距离基体50μm处的硬度(1 358 HV)高于距离基体200 μm处的(1 176 HV).通过工艺条件调整可有效改善ZL205A铝合金微弧氧化层的膜层结构及性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李争显		169	1281	19.0	26.0
2	杜继红		102	955	17.0	24.0
3	李宏战	西安建筑科技大学冶金工程学院	12	37	4.0	5.0
5	马幼平	西安建筑科技大学冶金工程学院	84	466	11.0	16.0
6	李少龙		4	20	1.0	4.0
9	王毅飞		12	15	2.0	3.0