加强筋结构对离子膜内场分布特性的影响

• 作者: 刘云义 刘国桢 张丽 李佑平 王学军 许光文
• 来源期刊: 化工学报
• 关键词: 离子膜 加强筋 计算流体力学 数值模拟
• 年，卷（期）: 2018,（10）
• 所属期刊栏目: 流体力学与传递现象
• 页码范围: 4167-4176
• 页数: 10页
• 分类号: TQ035|TQ021.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.11949/j.issn.0438-1157.20180397

摘要

为研究加强筋结构对离子膜内场分布特性的影响,采用多孔介质渗流模型、稀物质传递及二次电流分布模型,对电场条件下含加强筋的离子膜内物质迁移过程进行了数值模拟,得到了物质在膜内的对流速度、浓度及电流密度分布,考察了加强筋形状、间距及成网方式对场分布特性的影响.利用拍照法和图像处理技术对电解后膜表面离子浓度进行了测量,实验结果与模拟结果吻合良好.结果表明,在加强筋所围成的空隙中心处对流速度最大;越靠近加强筋,速度越低,浓度和电流密度越大;采用正交型加强筋,膜内具有较高的对流速度和电流密度;加强筋间距越大,电流密度越低,分布越均匀;采用椭圆形长轴迎流的加强筋时,膜内具有最高的电流密度,但其电流密度分布最不均匀.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘云义	沈阳化工大学化学工程学院	82	515	11.0	18.0
2	张丽	沈阳化工大学化学工程学院	56	452	9.0	20.0
3	许光文	沈阳化工大学化学工程学院	68	789	17.0	25.0
5	刘国桢		12	26	3.0	4.0
8	李佑平	沈阳化工大学化学工程学院	4	1	1.0	1.0
9	王学军		3	3	1.0	1.0