NaOH溶液对多孔硅后处理的研究

• 作者: 吕长武 张红梅
• 来源期刊: 化学工程师
• 学科: 化学
• 关键词: 多孔硅 NaOH溶液 后处理
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 工程师园地
• 页码范围: 70-73
• 页数: 4页
• 分类号: O649.2|O433.1
• 字数: 3066字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16247/j.cnki.23-1171/tq.20180370

摘要

用强碱溶液后处理多孔硅的方法常被用来打开表面孔洞,以便生物化学分子更好的进入孔洞而实现传感检测的目的.对于纳米多孔硅,碱溶液处理带来的孔洞直径的增加不可忽视,而对此的相关研究未见报道.本文用浓度分别为1、3和15m mol·L-1的NaOH溶液对多孔硅进行后处理研究,处理时间从1 min到30min.用NaOH溶液处理以后的多孔硅,孔径大小会改变,从而孔隙率改变导致多孔硅的折射率改变.测量不同条件下后处理多孔硅的反射光谱时反射谱会发生平移.实验结果表明:单层多孔硅和多层多孔硅,随着处理时间增加,NaOH溶液浓度增大,反射谱波峰会向波长小的方向移动,即发生蓝移.当NaOH溶液浓度达到15mM,浸泡时间达到8min时,多孔硅结构遭到破坏.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕长武	新疆大学物理科学与技术学院	14	167	5.0	12.0
2	张红梅		7	1	1.0	1.0