NiO/Ag/NiO透明导电膜光电特性研究

• 作者: 何源 修显武 孙阳 滕树云 王书运 王森
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 光电特性 透明导电膜 磁控溅射 复合材料
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 27-32
• 页数: 6页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2018.01.06

摘要

在室温条件下,利用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了NiO/Ag/NiO透明导电膜,研究了不同NiO层和Ag层厚度对三层膜可见光透过率和电阻特性的影响.结果分析表明:制备的NiO/Ag/NiO为N型透明导电膜.在400～800 nm的可见光区域内,随着NiO和Ag层厚度的增加,薄膜的透光率先增大后减小.NiO层厚度为30 nm且Ag层厚度为11 nm时,叠层膜具有较好的光学特性,其最大透过率为84％,薄膜电阻为3.8Ω/sq,载流子浓度为7.476×1021 cm-3.对薄膜透过率进行了计算机模拟,发现结果与实验中大致趋势相同,但因为折射率选择和薄膜界面等因素的影响,在可见光区域后半段实验值大于计算值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王书运	山东师范大学物理与电子科学学院	57	450	11.0	19.0
2	滕树云	山东师范大学物理与电子科学学院	29	176	8.0	11.0
3	王森	山东师范大学物理与电子科学学院	32	113	4.0	10.0
4	修显武	山东师范大学物理与电子科学学院	15	21	2.0	4.0
5	何源	山东师范大学物理与电子科学学院	5	16	2.0	4.0
6	孙阳	山东师范大学物理与电子科学学院	1	0	0.0	0.0