钽酸锂单晶片几何参数控制技术研究

• 作者: 李明佳 杨洪星 杨静 王雄龙 范红娜
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: 钽酸锂 几何参数 化学腐蚀 研磨 抛光
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 页码范围: 847-850
• 页数: 4页
• 分类号: TN384
• 字数: 2142字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11977/j.issn.1004-2474.2018.06.010

摘要

钽酸锂单晶材料具有良好的压电性能,是制作声表面波器件的理想衬底材料之一.该文从化学腐蚀、磨料粒径和粘蜡工艺3方面进行研究,钽酸锂单晶片的几何参数得到有效控制,最终得到了几何参数优越的钽酸锂单晶抛光片.其中总厚度变化(TTV)≤5μm,局部平整度(LTV)≤1.5 μm,局部平整度合格比例(PLTV)≥95％,翘曲度(Warp)≥20 μm,弯曲度(Bow)≤10 μm,达到了商用钽酸锂单晶片的技术水平.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨静	中国电子科技集团公司第四十六研究所	28	39	4.0	5.0
2	杨洪星	中国电子科技集团公司第四十六研究所	50	145	6.0	8.0
3	范红娜	中国电子科技集团公司第四十六研究所	5	2	1.0	1.0
4	王雄龙	中国电子科技集团公司第四十六研究所	9	3	1.0	1.0
5	李明佳	中国电子科技集团公司第四十六研究所	3	0	0.0	0.0